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J-GLOBAL ID：201102255625076828   整理番号：11A1489669

フォトニック結晶導波路に埋込んだ量子ドットにおけるキャリア緩和促進の検討

著者 (7件)： 尾崎信彦 (和歌山大 シス工) ,  宗石達矢 (和歌山大 シス工) ,  小田久哉 (千歳科技大) ,  池田直樹 (物質・材料研究機構) ,  渡辺慶規 (物質・材料研究機構) ,  杉本喜正 (物質・材料研究機構) ,  浅川潔 (筑波大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.31P-ZR-12  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *量子ドット ,  *緩和時間 ,  キャリア ,  *光スイッチ ,  光ルミネセンス ,  放射強度 ,  ヒ化インジウム ,  ヒ化ガリウム ,  格子定数 ,  *光導波路 ,  フォトニック結晶 ,  *キャリア緩和時間 ,  *全光スイッチ ,  発光強度
準シソーラス用語： Purcell効果 ,  *フォトニック結晶導波路

分類 (1件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (5件)： フォトニック結晶導波路 ,  埋込 ,  量子ドット ,  キャリア緩和 ,  促進