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J-GLOBAL ID：201102259789883991   整理番号：11A0914057

干渉性フェムト秒レーザ加工による10nm以下の超微細構造の発生

Generation of superfine structure smaller than 10nm by interfering femtosecond laser processing

著者 (4件)： NAKATA Y. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MOMOO K. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HIROMOTO T. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MIYANAGA N. (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7920  ページ： 79200B.1-79200B.9  発行年： 2011年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 干渉性フェムト秒レーザはエネルギーの周期的誘導を誘起する。基板上に堆積させた透明薄膜に照射すると,周期的熱過程により溶質膜の液体運動が生じる。得られる構造はナノ隆起,ナノホイスカ,ナノ液滴,ナノ冠などで,形状はレーザフルエンス,膜厚,基板材料などにより制御できる。一部の構造の曲率は<10nmで,アスペクト比は>20である。また,干渉性ビームの位相シフトとパワー比を制御して,二種類の形状の複製構造(二重密度構造)が得られ,二種類のナノ構造が交互に現れる。

シソーラス用語： *レーザ加工 ,  光干渉 ,  *ナノ構造 ,  薄膜 ,  透明材料 ,  位相シフト ,  *パルスレーザ照射 ,  計算機シミュレーション ,  干渉縞 ,  ホイスカ
準シソーラス用語： ナノホイスカ ,  干渉パターン ,  透明薄膜

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 干渉性 ,  フェムト秒レーザ加工 ,  微細構造