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J-GLOBAL ID：201102281810427034   整理番号：11A1513765

シルセスキオキサン含有ブロック共重合体による新しい自己組織化リソグラフィ材料の開発

Development of a New Series of Self-Assembling Lithographic Materials Based on Silsesquioxane-Containing Block Copolymers

著者 (1件)： 早川晃鏡 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： ネットワークポリマー  (Journal of Network Polymer, Japan)
巻： 32  号： 5  ページ： 268-275  発行年： 2011年09月10日 
JST資料番号： Z0934A  ISSN： 1342-0577  CODEN： NPORF2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 自己組織化の科学と技術が結集されたボトムアップテクノロジーを工学的に利用することを目標に,ブロック共重合体リソグラフィに用いるケイ素含有有機・無機ハイブリッドポリマーの創製を行った。本論文では,ブロック共重合体リソグラフィを紹介しながら,かご形シルセスキオキサンポリマーを基盤とするブロック共重合体(PMMA-b-PMAPOSS)の分子設計,合成,および薄膜におけるナノ構造制御について述べる。PMMA-b-PMAPOSSはリビングアニオン重合により合成した。薄膜はポリマー溶液をシリコン基板上にスピンキャストした後溶媒アニーリングを行うことにより作製した。原子間力顕微鏡による薄膜構造観察を行ったところ,点状(ドット状)ナノドメインが膜全体に形成されていることが分かった。続いて,薄膜に酸素プラズマエッチングを施したところ,ドット状ナノドメインが選択的に除去され,孔構造の薄膜が生成した。一方,2種類のDirected Self-Assemblyによるナノドメインの長距離秩序構造制御を行ったところ,ドット状ナノドメイン構造が高度にヘキサゴナル配列した薄膜が得られた。(著者抄録)

シソーラス用語： 有機ケイ素化合物 ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *ブロック共重合体 ,  *ポリスチレン ,  *自己組織化 ,  *リソグラフィー ,  高分子薄膜 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  オリゴマ ,  *ポリシルセスキオキサン ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  リビングアニオン重合 ,  スピンコーティング ,  焼なまし ,  原子間力顕微鏡 ,  長範囲規則度 ,  プラズマエッチング ,  透過型電子顕微鏡 ,  二硫化炭素 ,  溶媒 ,  架橋化合物 ,  制御 ,  構造 ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： PMMA ,  POSS【オリゴマ】 ,  アニーリング ,  シルセスキオキサン ,  かご型化合物 ,  構造制御

分類 (3件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  共重合  (CG04030D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： アセトン

引用文献 (23件)：

• 1) M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, Science, 276, 1401 (1997).
• 2) C. Park, J. Yoon, and E. L. Thomas, Polymer, 44, 6725 (2003).
• 3) C. J. Hawker and T. P. Russell, MRS Bulletin, 30, 952 (2005).
• 4) J. Bang, U. Jeong, D. Y. Ryu, T. P. Russell, and C. J. I Iawker, Adv. Mater., 21, 4769 (2009).
• 5) C. T. Black, K. W. Guarini, G. Breyta, M. C. Colburn, R. Ruiz, R. L. Sandstrom, E. M. Sikorski, and Y. Zhang, J. Vac. Sci. Technol. B, 24, 3188 (2006).

タイトルに関連する用語 (4件)： シルセスキオキサン ,  ブロック共重合体 ,  自己組織化リソグラフィ ,  開発