気相成長方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小越勇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-021101
公開番号（公開出願番号）：特開2000-219596
特許番号：特許第4368443号
出願日： 1999年01月29日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】(a) 複数の原料ガス源と、 (b) それぞれのガス源に一端が接続された複数の原料配管と、 (c) それぞれの原料配管の他端が接続され、原料ガスを成長室と排気系に切り替える切り替えバルブとを有する装置を用い、 (d) 原料配管と切り替えバルブを介して原料ガスを成長室に導入することで気相成長を開始し、気相成長を行う気相成長方法において、 (e) 気相成長時よりも多い流量の原料ガスを少なくとも1つの原料配管に流した後に気相成長を開始する気相成長方法。

IPC (2件)：