特許
J-GLOBAL ID:201103001595547326

燐化物パッシベートゲルマニウム基板を有する多層半導体構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-608449
特許番号:特許第3389218号
出願日: 2000年03月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1の表面と、バルクのゲルマニウム領域と、第1の表面に隣接した燐ドープされたゲルマニウム領域との2つの領域を有するゲルマニウム基板と、ゲルマニウム基板の第1の表面を覆ってそれと接触している燐化物材料の層とを具備していることを特徴とする多層半導体構造。
IPC (2件):
H01L 31/04 ,  H01L 21/205
FI (2件):
H01L 21/205 ,  H01L 31/04 E
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る