特許
J-GLOBAL ID：201103002670614146

溶射トーチのプラズマアークの発生装置及び発生方法

発明者：
今泉 幸雄

今泉 幸雄 について

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桜田 敏生

桜田 敏生 について

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山田 謙一

山田 謙一 について

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入江 政信

入江 政信 について

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島津 忠弘

島津 忠弘 について


出願人/特許権者：
西日本プラント工業株式会社

西日本プラント工業株式会社 について

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九州電力株式会社

九州電力株式会社 について

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島津工業有限会社

島津工業有限会社 について


代理人 (1件)： 加藤 久
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097232
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299099
特許番号：特許第4678973号
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 絶縁材を利用した環状のリングとこのリングの中に配置された円盤状の陰極とから形成されたチャンバおよびこのチャンバの内周面に沿う流れとしてプラズマガスが送り込まれるガス供給路が形成された本体と、前記陰極と同軸上に配置され、内部に前記チャンバ内で旋回流化されたプラズマガスがスパイラルの流線として流下するガス流路が形成された陽極と、この陽極のプラズマの出口側に設けられた粉末またはワイヤの溶射材料が供給される供給管とから構成され、前記陽極と前記陰極とに電圧印加することによって前記プラズマガスを媒体としてプラズマアークを発生させる溶射トーチのプラズマアークの発生装置において、前記ガス流路側の前記陰極の中心部が円錐状または皿状の凸部であり、前記陽極の内部のガス流路を、当該ガス流路の前記チャンバに臨む陰極側から当該ガス流路の下流側の終端側に向けて一様に先細りするテーパ流路とし、前記プラズマガスの流量、前記陽極と前記陰極とに印加する電圧および電流を調整することにより、前記プラズマガスの旋回流中心に収束させたプラズマアークを、前記テーパ流路部分の任意の位置に環状に均一に着地させるようにしたことを特徴とする溶射トーチのプラズマアークの発生装置。
IPC (4件)：
H05H 1/42 ( 200 6.01) ,  B01J 19/08 ( 200 6.01) ,  C23C 4/00 ( 200 6.01) ,  H05H 1/34 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H05H 1/42 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 4/00 ,  H05H 1/34
引用特許：
審査官引用 (22件)
  • 特開昭63-250097
  • プラズマ被膜表面仕上げの方法及び装置
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-535626   出願人：プラズマトリートゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング, フラウンホーファー-ゲゼルシャフトツァーフェルデルングデアアンゲヴァンテンフォーシャングアインゲトラーゲナーフェアアイン
  • 特開昭62-180998
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