特許
J-GLOBAL ID：201103004248911149
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 吉田 維夫
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242053
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066778
特許番号：特許第4127937号
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 次式(A)により表される第1のモノマー単位:
(上式において、
Rは、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
R1〜R5は、それぞれ、同一もしくは異なっていてもよく、水素原子、水酸基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、R3は水酸基であり、そして
lは、第1のモノマー単位の組成比を表す)、
次式(B)により表される第2のモノマー単位:
(上式において、
Rは前記定義に同じであり、
R6〜R10は、それぞれ、同一もしくは異なっていてもよく、水素原子、水酸基、-O-t-ブトキシカルボニル基又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、R8は-O-t-ブトキシカルボニル基であり、そして
mは、第2のモノマー単位の組成比を表す)、及び
次式(C)により表される第3のモノマー単位:
(上式において、
Rは前記定義に同じであり、
RIは、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表し、
Adは、式中のカルボキシル基に対して酸解離性保護基として作用する置換もしくは非置換のアダマンチル環を完成するのに必要な複数個の原子を表し、そして
nは、第3のモノマー単位の組成比を表す)から構成される1000〜150000の重量平均分子量を有している酸感応性3成分共重合体(ここで、n/(l+m+n)=0.05〜0.55である)と、
結像用放射線を吸収して分解すると前記酸感応性3成分共重合体の第3のモノマー単位のカルボキシル基の保護基の脱離を惹起し得る酸を発生可能である光酸発生剤と、
前記酸感応性3成分共重合体及び前記光酸発生剤の溶媒とを含んでなることを特徴とする、化学増幅型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
