研磨した石英ガラス基板の洗浄方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-160377
公開番号（公開出願番号）：特開2011-018668
出願日： 2009年07月07日
公開日（公表日）： 2011年01月27日
要約：

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。【解決手段】2流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として30%圧縮応力が20〜100kPa、20kPaにおける圧縮弾性率が50〜200kPaであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

研磨した石英ガラス基板を2流体ジェット洗浄する工程(A)と、2流体ジェット洗浄した前記石英ガラス基板を、乾燥状態に対して100%の水分を含んだ状態で、30%圧縮応力が20〜100kPa、圧力20kPaにおける圧縮弾性率が50〜200kPaであるスクラブ材を用いてスクラブ洗浄する工程(B)とを有することを特徴とする研磨した石英ガラス基板の洗浄方法。

IPC (8件)：

H01L 21/304 , B08B 1/04 , B08B 3/02 , B08B 3/12 , B08B 3/08 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , G03F 1/14

FI (11件)：

H01L21/304 643C , H01L21/304 647Z , H01L21/304 647B , B08B1/04 , H01L21/304 644G , B08B3/02 A , B08B3/12 A , B08B3/08 Z , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500 , G03F1/14 A

Fターム (65件)：

2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JC19 , 2H095BB20 , 2H095BC26 , 3B116AA02 , 3B116AB42 , 3B116BA08 , 3B116BB02 , 3B116BB22 , 3B116BB38 , 3B116BB62 , 3B116BB83 , 3B116BB90 , 3B116CC01 , 3B201AA02 , 3B201AB42 , 3B201BA08 , 3B201BB02 , 3B201BB22 , 3B201BB38 , 3B201BB62 , 3B201BB83 , 3B201BB90 , 3B201BB93 , 3B201BB94 , 3B201CB11 , 3B201CB25 , 3B201CC01 , 3B201CC21 , 5F157AA08 , 5F157AA14 , 5F157AA29 , 5F157AA42 , 5F157AA70 , 5F157AA73 , 5F157AA96 , 5F157AB02 , 5F157AB13 , 5F157AB44 , 5F157AC01 , 5F157AC02 , 5F157AC04 , 5F157AC55 , 5F157BA07 , 5F157BA31 , 5F157BB02 , 5F157BB13 , 5F157BB23 , 5F157BB37 , 5F157BB73 , 5F157BC03 , 5F157BC53 , 5F157BE12 , 5F157BE32 , 5F157CB02 , 5F157CB03 , 5F157CF62 , 5F157DB02 , 5F157DB03 , 5F157DB18 , 5F157DB20 , 5F157DB37 , 5F157DB43

引用特許：

審査官引用 (4件)

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-013986 出願人：HOYA株式会社
フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-031786 出願人：HOYA株式会社
ガラス基板の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-157501 出願人：日本板硝子株式会社

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引用文献：

審査官引用 (3件)

アイオン株式会社製品カタログ, 200803
アイオン株式会社製品カタログ, 200803
アイオン株式会社製品カタログ, 200803

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