特許
J-GLOBAL ID：200903062822705465
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-013986
公開番号（公開出願番号）：特開2005-208282
出願日： 2004年01月22日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】 微小欠陥の少ないハーフトーン型位相シフトマスクブランクを高歩留まりで効率良く製造できること。【解決手段】 透明基板上にシリコンを含むのハーフトーン材料膜を成膜し(S5)、このハーフトーン材料膜上に遮光膜を成膜して(S8)ハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造するハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法において、上記ハーフトーン材料膜の成膜(S5)後で上記遮光膜の成膜(S8)前に、ハーフトーン材料膜の表面に、物理的エネルギーを洗浄力として利用する物理的洗浄を実施し(S6)、この物理的洗浄が、回転した洗浄ツールを接触させて洗浄するスクラブ洗浄と、気体と溶媒とを混合した洗浄液を噴射して洗浄する2流体噴射洗浄と、超音波が印加された洗浄液を供給して洗浄する超音波洗浄との少なくとも一つである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透光性基板上にシリコンを含むハーフトーン材料膜を成膜し、このハーフトーン材料膜上に遮光膜を成膜してハーフトーン型位相シフトマスクブランクを製造するハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法において、
上記ハーフトーン材料膜の成膜後で上記遮光膜の成膜前に、上記ハーフトーン材料膜の表面に対して、物理的エネルギーを洗浄力として利用する物理的洗浄を行うことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB20
, 2H095BB25
出願人引用 (2件)
審査官引用 (19件)
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