特許
J-GLOBAL ID：200903085409557725

フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法

発明者：
後藤 良

後藤 良 について

, 
花岡 修

花岡 修 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (3件)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-031786
公開番号（公開出願番号）：特開2005-221928
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 透明基板の表面に付着した異物等を、少ないエッチング液の使用量で好適に除去して、膜下欠陥が極めて少ない高品質なフォトマスクブランクを製造できること。【解決手段】 透明基板1の表面を、アルカリ水溶液を用いてエッチング処理した後、透明基板の表面に、被転写体に転写するための転写パターンとなる薄膜を形成するフォトマスクブランクの製造方法において、上記エッチング処理をした後で上記薄膜を形成する前に、気体と溶媒を混合した洗浄液を透明基板の表面に噴射する2流体噴射ノズル13を用いた2流体噴射洗浄と、超音波が印加された溶媒を洗浄液として透明基板の表面に供給する超音波洗浄ノズル14を用いた超音波洗浄との少なくとも一つの物理的洗浄を行うことで、上記透明基板の表面を洗浄するものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透光性基板の表面をエッチング液を用いてエッチング処理した後、上記透光性基板の表面に、被転写体に転写するための転写パターンとなる薄膜を形成するフォトマスクブランクの製造方法において、 上記エッチング処理をした後で上記薄膜を形成する前に、洗浄液を上記透光性基板の表面に供給し、当該表面に付着している異物を物理的作用を利用して除去する物理的洗浄を行うことを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。
IPC (6件)：
G03F1/08 ,  B08B3/08 ,  B08B3/12 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  G03F1/14
FI (6件)：
G03F1/08 X ,  B08B3/08 A ,  B08B3/12 B ,  C03C15/00 B ,  C03C23/00 A ,  G03F1/14 Z
Fターム (19件)：
2H095BB20 ,  2H095BB22 ,  2H095BC26 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201BA02 ,  3B201BA11 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  3B201BC01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC24 ,  4G059BB16
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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