特許
J-GLOBAL ID：201103004579644329
液晶表示装置用の薄膜トランジスタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
畑 泰之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-119027
特許番号：特許第3386017号
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ゲート電極と、このゲート電極直下のチャンネル領域を挟むように設けられたソース及びドレインと、前記チャンネル領域とソース間及び前記チャンネル領域とドレイン間に夫々形成されたLDD領域とからなる透明基板上に形成された液晶表示装置用の薄膜トランジスタの製造方法において、透明基板上に第1の遮光膜を形成し、この第1の遮光膜上に第1の層間膜を形成する第1の工程と、前記第1の層間膜上に第1のポリシリコン層を形成し、所定の形状にパターニングした後、この第1のポリシリコン層上にゲート酸化膜を成膜する第2の工程と、前記第1のポリシリコン層上のチャンネル領域及びLDD領域となる部分を覆い、ソース領域及びドレイン領域となる領域にイオン注入する第3の工程と、前記チャンネル領域のみを覆い、ソース領域、ドレイン領域及びLDD領域となる部分に更にイオン注入して、前記ソース領域、ドレイン領域及びLDD領域を形成する第4の工程と、第2のポリシリコン層を成膜し、前記チャンネル領域、LDD領域を覆うようにパターニングして、ゲート電極を形成し、このゲート電極上にゲート線を形成する第5の工程と、前記ゲート線上に第2の層間膜を形成し、この第2の層間膜上にデータ線を形成し、このデータ線上に第3の層間膜を介して第2の遮光膜を形成する第6の工程と、を少なくとも含むことを特徴とする液晶表示装置用の薄膜トランジスタの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/336
, G02F 1/1368
, H01L 29/786
G02F 1/1368
, H01L 29/78 616 A
, H01L 29/78 617 L
, H01L 29/78 619 A
