特許
J-GLOBAL ID:201103004988741875

膜ろ過システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (19件): 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-209524
公開番号(公開出願番号):特開2011-056412
出願日: 2009年09月10日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】逆浸透膜モジュールへ原水を供給する高圧ポンプの動力費を低減させ、トータルのランニングコストを低減できる膜ろ過システムを提供する。【解決手段】原水槽2と、原水から溶質の一部が除去された一次処理水を収容する第1の処理水槽5と、一次処理水から溶質がさらに除去された二次処理水を収容する第2の処理水槽8と、原水槽から第1の処理水槽までの間に配置され、溶質の除去率が1%〜30%となるように溶質を除去するナノろ過膜モジュール4,41-4nと、原水槽からナノろ過膜モジュールに供給し、ナノろ過膜を透過した一次処理水を第1の処理水槽に送る第1の供給ポンプ3と、第1の処理水槽から第2の処理水槽までの間に配置され、一次処理水から溶質を除去する逆浸透膜モジュール7と、第1の処理水槽から一次処理水を逆浸透膜モジュールに供給し、逆浸透膜を透過した二次処理水を第2の処理水槽に送る第2の供給ポンプ6と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
溶質を含む原水を収容する原水槽と、 原水から溶質の一部が除去された一次処理水を収容する第1の処理水槽と、 前記一次処理水から溶質がさらに除去された二次処理水を収容する第2の処理水槽と、 前記原水槽から前記第1の処理水槽までの間に配置され、溶質の除去率が1%以上30%以下となるように原水から溶質を除去するナノろ過膜を有するナノろ過膜モジュールと、 前記原水槽から原水を前記ナノろ過膜モジュールに供給し、前記ナノろ過膜に透過させ、前記ナノろ過膜を透過した一次処理水を前記第1の処理水槽に送る第1の供給ポンプと、 前記第1の処理水槽から前記第2の処理水槽までの間に配置され、前記一次処理水から溶質を除去する逆浸透膜を有する逆浸透膜モジュールと、 前記第1の処理水槽から一次処理水を前記逆浸透膜モジュールに供給し、前記逆浸透膜に透過させ、前記逆浸透膜を透過した二次処理水を前記第2の処理水槽に送る第2の供給ポンプと、 を有することを特徴とする膜ろ過システム。
IPC (4件):
B01D 61/58 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/16 ,  C02F 1/44
FI (4件):
B01D61/58 ,  B01D61/02 ,  B01D61/16 ,  C02F1/44 A
Fターム (21件):
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006KA01 ,  4D006KA02 ,  4D006KA52 ,  4D006KA53 ,  4D006KA55 ,  4D006KA56 ,  4D006KA57 ,  4D006KB15 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KC15 ,  4D006MA01 ,  4D006MB06 ,  4D006PA01 ,  4D006PB03 ,  4D006PB05 ,  4D006PB08
引用特許:
審査官引用 (6件)
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