半導体部品用洗浄剤および半導体部品の洗浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白井重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266455
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064680
特許番号：特許第4224658号
出願日： 1999年09月21日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくともイタコン酸(塩)を含む単量体成分を(共)重合してなる(共)重合体を主成分とし、化学的機械研磨前後の半導体部品洗浄に使用されることを特徴とする半導体部品用洗浄剤。

IPC (4件)：

C11D 3/37 ( 200 6.01) , C11D 1/04 ( 200 6.01) , C11D 1/14 ( 200 6.01) , H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C11D 3/37 , C11D 1/04 , C11D 1/14 , H01L 21/304 647 B

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開昭63-272460

審査官引用 (9件)

特開昭63-272460
特開昭63-272460
アルカリ洗浄剤用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-208555 出願人：東亞合成化学工業株式会社

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