真空蒸着装置におけるマスキング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：清水善廣 , 阿部伸一 , 辻田幸史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-001844
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199046
特許番号：特許第4246828号
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】キャリアに設けた基板受け上に載置したガラス基板の所望箇所を被覆するマスクを有するマスキング装置であって、前記マスクを前記ガラス基板と熱膨張率が近い材料で形成し、前記マスクの少なくとも一端と前記キャリアとの間に、ばねを架設し、前記マスクの熱変形時のだれを防止するために前記マスクの蒸着面側に角パイプを設け、前記マスクを前記ガラス基板と接触させて成膜することを特徴とする真空蒸着装置におけるマスキング装置。

IPC (2件)：