水平搬送型表面処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：青山葆 , 大森忠孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-072249
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262356
特許番号：特許第4198859号
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プリント基板等の板状ワーク(W)を上下ローラ(10、11)の多数対により水平搬送する表面処理装置において、各上下ローラ(10、11)の両端部を側板(7)で支承する浸漬槽(2)の底板(8)の長手方向両端縁部を上記側板(7)に設けた溝に嵌入しかつ上記側板(7)の側面を浸漬槽(2)の外側の処理槽(1)に設けたアジャスタ(25、25a、25b、30a)で支え、浸漬槽側板(7)の側方へのゆがみを防止または調整できるようにしたことを特徴とする、水平搬送型表面処理装置。

IPC (6件)：

C23C 18/16 ( 200 6.01) , C23C 18/31 ( 200 6.01) , B05C 3/12 ( 200 6.01) , B05C 13/02 ( 200 6.01) , B65G 13/00 ( 200 6.01) , B65G 49/02 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C23C 18/16 Z , C23C 18/31 E , B05C 3/12 , B05C 13/02 , B65G 13/00 A , B65G 49/02 H

引用特許：

審査官引用 (6件)

化学処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-290911 出願人：東京化工機株式会社
特開平4-187796
感光材料処理装置のニップ機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-231668 出願人：富士写真フイルム株式会社

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