リソグラフィー用下地材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：阿形明 , 水口崇敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-020507
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221689
特許番号：特許第3715453号
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (A)ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を少なくとも2個有する含窒素化合物、(B)水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された炭化水素基をもつ有機酸、及び(C)少なくとも2個の水酸基を有するベンゾフェノン化合物、少なくとも2個の水酸基を有するビスフェニルスルホン化合物、少なくとも2個の水酸基を有するビスフェニルスルホキシド化合物、及び少なくとも1個の水酸基又はヒドロキシアルキル基を有するアントラセン化合物の中から選ばれた吸光性化合物を、有機溶剤に溶解してなるリソグラフィー用下地材。

IPC (2件)：