特許
J-GLOBAL ID：200903034451363007

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
上谷 保則

上谷 保則 について

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大橋 賢治

大橋 賢治 について

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森馬 洋

森馬 洋 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-352700
公開番号（公開出願番号）：特開2002-156750
出願日： 2000年11月20日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：
【要約】【課題】樹脂成分と酸発生剤を含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、プロファイルの形状に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】2-アルキル-2-アダマンチル基、または1-アダマンチル-1-アルキルアルキル基で保護されたアルカリ可溶性基を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂、および下式(I)(式中、Q1、Q2及びQ3は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、Q4は、環状構造を有しても良いパーフルオロアルキルを示す。)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
2-アルキル-2-アダマンチル基、又は1-アダマンチル-1-アルキルアルキル基で保護されたアルカリ可溶性基を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂、及び下式(I)(式中、Q1、Q2及びQ3は、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数1〜6のアルコキシを表し、Q4は、環状構造を有しても良いパーフルオロアルキルを示す。)で示されるスルホニウム塩系酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 503 ,  C08F 20/18 ,  C08F 32/00 ,  C08K 5/45 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/004 503 A ,  C08F 20/18 ,  C08F 32/00 ,  C08K 5/45 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (25件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB51 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BK001 ,  4J002EV306 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AL08P ,  4J100AR11P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (14件)
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