特許
J-GLOBAL ID：201103009546380255

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
留場 恒光

留場 恒光 について

, 
渋谷 明規

渋谷 明規 について

, 
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (20件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-198728
公開番号（公開出願番号）：特開2011-048289
出願日： 2009年08月28日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：
【課題】 LWR、現像欠陥及びDOFが改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)プロトンアクセプター性官能基を有し、且つ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物(PA)、及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(一般式(1)中の各符号は、本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を表す。)【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)プロトンアクセプター性官能基を有し、且つ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物(PA)、及び (C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/00 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/00 ,  H01L21/30 502R
Fターム (52件)：
2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF33P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ66Y ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ82Y ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA40P ,  4J100BC03R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件)

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