特許
J-GLOBAL ID：200903060739023333

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-021344
公開番号（公開出願番号）：特開2006-208781
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】露光ラチチュード、疎密依存性、ラインエッジラフネスが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、パターン形成方法及び特定の有機酸を提供する。【解決手段】プロトンアクセプター性官能基を有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸基を生成し、そのアクセプター性が低下若しくは消失、又はプロトンアクセプター性官能基が酸性に変化する化合物、或いは活性光線又は放射線の照射により、一般式(I)で示される特定の有機酸を発生する化合物を含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
プロトンアクセプター性官能基を有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸基を生成し、そのアクセプター性が低下若しくは消失、又はプロトンアクセプター官能基が酸性に変化する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  C07C 309/14 ,  C07C 309/65 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/004 503A ,  C07C309/14 ,  C07C309/65 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (6件)
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