特許

J-GLOBAL ID：201103009560323132

膜厚測定方法及び膜厚測定装置

発明者： 金馬 利文 ,  中井 俊輔
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (2件)： 熊谷 隆 ,  高木 裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-353692
公開番号（公開出願番号）：特開2001-165627
特許番号：特許第3782629号
出願日： 1999年12月13日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被測定膜に光を照射し、該被測定膜の上下の境界面で反射する反射光を受光し、該被測定膜の膜厚を測定する膜厚測定方法であって、 複数の波長λ(λ1≦λ≦λ2;測定波長範囲)の光で被測定膜のある部分の分光反射率比S(λ)を実測すると共に、該複数の波長の光で被測定膜のない部分の分光反射率比R(λ)を実測し、分光反射率比Rmeas(λ)=S(λ)/R(λ)を求め、ある仮定された膜厚dにおける分光反射率比の理論値Rcalc(λ)を求め、分光反射率比の実測値Rmeas(λ)の値と前記膜厚dにおける分光反射率比の理論値Rcalc(λ)との差の2乗和の評価値Edを下式により求め、 前記膜厚dを測定検索範囲d1からd2の間で、ステップ刻みΔdで変化(増加又は減少)させ各該当膜厚における評価値Edを求めることにより、膜厚dに対する評価関数E(d)を得、又膜そのものの分光反射率比Rmeas(λe)=1とし、ある膜厚dにおける分光反射率比の理論値Rcalc(λe)と該分光反射率比Rmeas(λe)=1との差の2乗和の評価値Enewdを下式より求め、 前記膜厚dを測定検索範囲d1からd2の間で、ステップ刻みΔdで変化(増加又は減少)させ各該当膜厚における評価値Enewdを求めることにより、評価関数Enew(d)を得、前記評価関数E(d)と評価関数Enew(d)の比PE(d)=E(d)/Enew(d)を求め、該評価関数比率PE(d)のうち最小値を与える膜厚dを計測された膜厚値Dとすることを特徴とする膜厚測定方法。

IPC (1件)：

G01B 11/06 ( 200 6.01)

FI (1件)：

G01B 11/06 G

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 膜厚測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-257853   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 膜厚測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-181813   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 膜厚測定装置および膜厚測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-321064   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-046501