スペクトル純度フィルタを形成する方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森下賢樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-510929
公開番号（公開出願番号）：特表2011-523782
出願日： 2009年05月05日
公開日（公表日）： 2011年08月18日
要約：

【課題】改良された放射システムを提供する。【解決手段】放射システムは放射ビームを生成するよう構成される。放射システムは放射を生成する放射源と、放射ビーム発射開口と、放射源により生成された放射を集光してその放射を放射ビーム発射開口に伝達するための放射コレクタと、を含むチャンバを備える。放射コレクタは、開口を通じて発せられる放射のスペクトル純度を高めるためのスペクトル純度フィルタを含む。スペクトル純度フィルタは、ベース基板と、ベース基板上の多層スタックであって複数の交互の層を備える多層スタックと、多層スタックの上側にある複数の凹部であって第1波長を有する放射を第1方向に反射し第2波長を有する放射を第2方向に反射するよう構成されている複数の凹部と、を備え、複数の凹部は断面が対称の形状を有するよう構成されている。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

第1波長を有する放射を第1方向に反射し第2波長を有する放射を該第1方向とは異なる第2方向に反射するスペクトル純度フィルタであって、ベース基板と、前記ベース基板上の多層スタックであって、複数の交互の層を備える多層スタックと、前記多層スタックの上側にある複数の凹部であって、第1波長を有する放射を第1方向に反射し第2波長を有する放射を第2方向に反射するよう構成されている複数の凹部と、を備え、前記複数の凹部は断面が対称の形状を有するよう構成されていることを特徴とするスペクトル純度フィルタ。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G21K 3/00 , G21K 1/00

FI (4件)：

H01L21/30 531S , H01L21/30 531A , G21K3/00 S , G21K1/00 X

Fターム (2件)：

5F046GB07 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

光学部品及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-119353 出願人：キヤノン株式会社
高効率耐熱性多層膜回折格子
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-271484 出願人：独立行政法人日本原子力研究開発機構, 株式会社島津製作所
光学素子、このような光学素子を備えたリソグラフィ装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-321406 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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