基板現像装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123977
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315643
特許番号：特許第3652169号
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】フォトレジスト膜が形成された基板に親水化処理のための親水化処理液を供給した後に、基板に現像液を供給して基板上に現像液を液盛りし、その状態で現像処理を行う基板現像装置であって、基板を回転可能に保持する回転保持手段と、親水化処理液を供給する親水化処理液供給手段と、原現像液を供給する原現像液供給手段と、親水化処理液供給手段および原現像液供給手段にそれぞれ連通接続され、回転保持手段に保持された基板上に親水化処理液および現像液をその順に供給する単一のノズルと、親水化処理液および原現像液のうちの少なくともいずれか一方の流量を調節する流量調節手段と、親水化処理過程では少なくとも親水化処理液をノズルに送り、現像処理過程では親水化処理液と原現像液とを混合して所定濃度の現像液がノズルから吐出されるように、流量調節手段を操作する制御手段とを備え、制御手段は、現像処理過程で、基板に現像液を供給し、その後に回転保持手段を駆動して基板を一時的に回転させることにより基板上の現像液を一旦振り切るという、現像液の供給と振り切りとを少なくとも1回行わせる現像液の途中振り切り過程を経た後に、ノズルから供給される新たな現像液を基板上に液盛りし、さらに、前記現像液の途中振り切り過程で基板上の現像液を一旦振り切る期間においては、常に親水化処理液が基板に供給されるように流量調節手段を操作する基板現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501

引用特許：

出願人引用 (7件)

現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-226675 出願人：株式会社東芝, 東京エレクトロン株式会社
特開平2-063060
特開平2-046464

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審査官引用 (6件)

現像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-226675 出願人：株式会社東芝, 東京エレクトロン株式会社
処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-084064 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平2-063060

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