特許

J-GLOBAL ID：201103011087713437

光学フィルムの製造方法とそれを用いて得られる光学フィルム及び光学素子

発明者： 須崎 吾郎 ,  平井 知生
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (1件)： 森田 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-037649
公開番号（公開出願番号）：特開2011-175021
出願日： 2010年02月23日
公開日（公表日）： 2011年09月08日
要約：

【課題】位相差を有するCOPフィルム上に、直接、液晶性組成物からなる液晶層を形成した光学フィルムを製造するにあたり、熱および張力によるCOPフィルムの位相差変動を抑制できる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】連続的に搬送されるシクロオレフィンポリマーフィルムの片面に保護層を積層せしめる工程、保護層とは反対側の面に液晶性組成物をコーティングする工程、加熱処理により前記液晶性組成物を配向せしめる工程、前記配向を固定化する工程をこの順序で行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

連続的に搬送されるシクロオレフィンポリマーフィルムの片面に保護層を積層せしめる工程、保護層とは反対側の面に液晶性組成物をコーティングする工程、加熱処理により前記液晶性組成物を配向せしめる工程、前記配向を固定化する工程をこの順序で行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  B32B 27/32

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  B32B27/32 C

Fターム (48件)：

2H149AA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB15 ,  2H149FA05Z ,  2H149FA23Y ,  2H149FA37Y ,  2H191FA30 ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB05 ,  2H191FC08 ,  2H191FC09 ,  2H191FC32 ,  2H191FC35 ,  2H191FD35 ,  2H191HA06 ,  2H191HA08 ,  2H191HA09 ,  2H191HA11 ,  2H191HA13 ,  2H191HA14 ,  2H191HA15 ,  2H191LA25 ,  2H191PA25 ,  2H191PA84 ,  2H191PA85 ,  2H191PA86 ,  2H191PA87 ,  4F100AK01C ,  4F100AK02A ,  4F100AK03B ,  4F100AK41B ,  4F100AK42B ,  4F100AL05C ,  4F100BA03 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100EH46C ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ42 ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JA11C ,  4F100JA20C ,  4F100JN10 ,  4F100JN18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光学フィルムの製造方法および該フィルムを用いた液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-101027   出願人：新日本石油株式会社
• 積層体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-323270   出願人：東レ株式会社, 住友化学株式会社, 東亞合成株式会社
• 積層体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-163653   出願人：東レ株式会社