マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、反射型マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び、半導体装置の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-096893
公開番号（公開出願番号）：特開2011-207757
出願日： 2011年04月25日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：

【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板1の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板1の表面を基板押圧手段67により研磨布61に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板1の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板1を研磨布61に押し当て、かつ、研磨布押圧手段67が、前記ガラス基板1の外周部近傍の前記研磨布61を押圧しながら、前記ガラス基板1を研磨する研磨工程と、を有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

マスクブランクス用のガラス基板の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記凹凸形状測定工程で得られた測定結果にもとづいて、前記凹凸形状を含む領域に対して表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度を所定の基準値以下に制御し、かつ板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板表面を基板押圧手段により研磨布に押圧しつつ、前記ガラス基板を回転させて研磨する際、前記ガラス基板表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板を研磨布に押し当て、かつ、研磨布押圧手段が、前記ガラス基板の外周部近傍の前記研磨布を押圧しながら、前記ガラス基板を研磨する研磨工程と、を有するマスクブランクス用ガラス基板の製造方法。

IPC (11件)：

C03C 19/00 , C03C 15/00 , C03C 17/36 , C03C 23/00 , G01B 9/02 , G01B 11/24 , G01B 11/30 , G01B 11/06 , G02B 5/08 , G02B 5/00 , H01L 21/302

FI (11件)：

C03C19/00 Z , C03C15/00 A , C03C17/36 , C03C23/00 A , G01B9/02 , G01B11/24 D , G01B11/30 101 , G01B11/06 G , G02B5/08 A , G02B5/00 Z , H01L21/302 201B

Fターム (41件)：

2F064AA09 , 2F064EE05 , 2F064FF01 , 2F064FF08 , 2F064GG55 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F064JJ01 , 2F065AA30 , 2F065AA47 , 2F065AA53 , 2F065BB01 , 2F065BB22 , 2F065CC18 , 2F065FF51 , 2F065GG04 , 2F065GG25 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065NN06 , 2F065QQ31 , 2H042AA02 , 2H042AA15 , 2H042AA25 , 2H042DA01 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 4G059AA08 , 4G059AA11 , 4G059AB03 , 4G059AB09 , 4G059AB11 , 4G059AC03 , 4G059BB01 , 4G059GA02 , 4G059GA14 , 5F004AA01 , 5F004AA11 , 5F004BA11 , 5F004DB00 , 5F004EB07

引用特許：

審査官引用 (4件)

電子デバイス用基板、該基板を用いたマスクブランクおよび転写用マスク、並びにこれらの製造方法、研磨装置および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-089970 出願人：HOYA株式会社
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-090682 出願人：HOYA株式会社
周波数変換位相シフト干渉計測法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-518063 出願人：ザイゴコーポレーション

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