特許
J-GLOBAL ID：201103011530549211

反応容器及びそれを備えるプラズマ処理装置

発明者：
高野 雄一

高野 雄一 について

, 
寺尾 公一

寺尾 公一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331763
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148372
特許番号：特許第4437350号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマを用いて試料に反応処理を施す反応容器において、 内面の一部又は全部にアルミナ保護膜を500μm〜1000μmの厚みで形成してあることを特徴とする反応容器。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/302 101 G ,  H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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