レジスト材料及びパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204603
公開番号（公開出願番号）：特開2003-021904
特許番号：特許第3871024号
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量が1,000〜500,000である高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。 (式中、R1、R2は水素原子、ヒドロキシ基、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換可アルコキシ基、又はハロゲン原子、R3は酸不安定基を表す。また、mは0又は1〜4の正の整数であり、p、qは正数である。)

IPC (5件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) , G03F 7/004 ( 200 6.01) , C08F 232/08 ( 200 6.01) , C08F 234/00 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , C08F 232/08 , C08F 234/00 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平4-249509
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-147688 出願人：富士写真フイルム株式会社
レジスト組成物およびその利用
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-063775 出願人：日本ゼオン株式会社

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