特許
J-GLOBAL ID：201103015219116633

酸発生剤用の塩及びレジスト組成物

発明者：
落合 光良

落合 光良 について

, 
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
杉原 昌子

杉原 昌子 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-220640
公開番号（公開出願番号）：特開2011-116742
出願日： 2010年09月30日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2はフッ素原子又はC1-6ペルフルオロアルキル基を表す。nは1〜3の整数を表す。Z+は式(b2-1)などで表されるスルホニウムカチオン、ジフェニルヨードニウムカチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (5件)：
C07C 309/27 ,  C07C 381/12 ,  C07C 25/18 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C07C309/27 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (28件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF24P ,  2H125AF26P ,  2H125AF33P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL03 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AB48
引用特許：
審査官引用 (3件)

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