特許
J-GLOBAL ID：200903016455053861

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-383817
公開番号（公開出願番号）：特開2005-148291
出願日： 2003年11月13日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程等に使用される、250nm以下、特にArFエキシマレーザー光(193nm)、F2エキシマレーザー光(157nm)の露光波長において、PEB温度依存性が小さく、露光ラチチュードが大きい、良好な感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線または放射線の照射により一般式(X)で表されるスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-321128   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-132546   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • レジスト材料及びパターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-239633   出願人：信越化学工業株式会社
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審査官引用 (17件)
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