特許
J-GLOBAL ID:201103015466309800

SnO2系焼結体、薄膜形成用材料および導電膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-090161
公開番号(公開出願番号):特開2000-281431
特許番号:特許第4018839号
出願日: 1999年03月30日
公開日(公表日): 2000年10月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 Al、Si、Nb、TaおよびYからなる群から選ばれた少なくとも1種を含有するSnO2系薄膜形成用材料であって、NbおよびTaの双方を必須成分として含有し、その添加量の合計が酸化物換算で20重量%以下であるSnO2系混合粉末を成形し、大気雰囲気または酸素雰囲気中において1450°C以上で焼結されたSnO2系焼結体からなり、その比抵抗が1×104Ω・cm以下であることを特徴とする、SnO2系薄膜形成用材料。
IPC (7件):
C04B 35/457 ( 200 6.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  H01B 1/08 ( 200 6.01) ,  H01B 5/14 ( 200 6.01) ,  H01J 9/02 ( 200 6.01) ,  H01J 11/00 ( 200 6.01) ,  H01J 17/04 ( 200 6.01)
FI (7件):
C04B 35/00 R ,  C23C 14/34 A ,  H01B 1/08 ,  H01B 5/14 A ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/00 A ,  H01J 17/04
引用特許:
審査官引用 (12件)
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