特許

J-GLOBAL ID：201103017496250056

半導体製造装置

発明者： 藤村 隆
出願人/特許権者： セイコーインスツル株式会社
代理人 (3件)： 久原 健太郎 ,  内野 則彰 ,  木村 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044071
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246300
特許番号：特許第4567216号
出願日： 2001年02月20日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 フォトレジストが塗布された半導体ウエハーを露光する半導体製造装置であって、 前記半導体ウエハーの裏面の異物を検出するための異物検査装置と、 下降動作可能な、分割された複数のブロックから構成された前記半導体ウエハーを載置するための露光ステージと、を有し、 前記露光ステージは、前記半導体ウエハーが載置される場合に、前記異物検査装置によって検出された異物が存在する部分を含む前記ブロックを下げて凹部とし、前記半導体ウエハーの表面を平坦とする機能を有することを特徴とする半導体製造装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 9/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 514 E ,  H01L 21/30 503 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/68 K

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-041538   出願人：松下電子工業株式会社
• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-195040   出願人：株式会社日立製作所
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-129930   出願人：ソニー株式会社