特許
J-GLOBAL ID：201103017511222099

微細構造体の製造方法

発明者：
石田 方哉

石田 方哉 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-202199
公開番号（公開出願番号）：特開2002-023356
特許番号：特許第3843706号
出願日： 2000年07月04日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板表面に膜厚が3nm以下のヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリエトキシシラン膜を形成する工程と、 波長222nmエキシマランプ、波長308nmエキシマランプまたは波長200nmから380nmの成分を主に含むメタルハライドランプを光源とした紫外光を照射して前記ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリエトキシシラン膜の一部を除去する工程と、 前記ヘプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリエトキシシラン膜を除去した領域にアミノ基を有する自己組織化膜を形成する工程と、 前記基板をアクチベーターとしての混合液に浸す工程と、 前記基板を無電解めっき液に浸す工程と、を有することを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  B05D 3/06 ( 200 6.01) ,  B05D 7/24 ( 200 6.01) ,  G03F 7/075 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (7件)：
G03F 7/004 531 ,  B05D 3/06 102 B ,  B05D 7/24 302 Y ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 562
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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