プラズマ反応炉システムの運転制御方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：飯塚信市
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-403116
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203795
特許番号：特許第3982670号
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】液晶デバイスや半導体デバイス等の処理対象物が装入される反応炉と、反応炉内のガスを励起させてプラズマを生成するためのプラズマ発生部と、反応炉内へのガス供給を行うガス供給部と、反応炉からのガス排気を行うガス排気部と、ガス供給部の動作とガス排気部の動作とを連動させて制御することにより、反応炉内のガスを所望のガス種とその濃度並びに圧力に切り替えるガス切替部と、を有するプラズマ反応炉システムの運転制御方法であって、ガス切替部に対してプロセスガスから不活性ガスへの切替指令を与えたのちに、プラズマ発生部に対してプラズマ発生停止指令を与える、ことを特徴とするプラズマ反応炉システムの運転制御方法。

IPC (2件)：