特許
J-GLOBAL ID：200903085156991423

半導体又は液晶製造用装置並びに液体材料ガスの気化方法

発明者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

, 
新田 雄久

新田 雄久 について


出願人/特許権者：
大見 忠弘

大見 忠弘 について

, 
株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所

株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所 について


代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-337999
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200780
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：
【要約】【課題】 高速で再現性のある、均一性が高く、かつ高速な半導体又は液晶ディスプレイの製造を可能とする装置を構築することを目的とする。【解決手段】 設定流量より任意の過剰のガスを任意の時間供給することが可能である装置内の圧力及び複数のガス分圧の制御システムを装置の上流に備え、制御システムと装置の下流に備えられた開度可変型流体制御バルブもしくは排気速度可変型真空排気装置とを連動させる事により装置内の圧力及び複数のガス分圧を一定に保つ事が可能なフィードフォワード方式の製造が可能であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
半導体又は液晶製造用装置内の圧力及び複数のガス分圧の制御システムを装置の上流側に備えたことを特徴とする半導体又は液晶製造用装置。
IPC (4件)：
H01L 21/31 ,  G01F 1/68 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/205
FI (4件)：
H01L 21/31 B ,  G01F 1/68 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/205
Fターム (16件)：
2F035EA00 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  5F045AC07 ,  5F045AC15 ,  5F045AC17 ,  5F045BB09 ,  5F045BB15 ,  5F045CA15 ,  5F045EC09 ,  5F045EE02 ,  5F045EE17 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06 ,  5F045GB15
引用特許：
審査官引用 (13件)
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