特許
J-GLOBAL ID:201103020309903140
縦型加熱装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
北條 和由
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-331009
特許番号:特許第3131205号
出願日: 1999年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲むように立設された円筒形の化学的及び熱的に安定した材料からなるチューブ(8)、(9)と、このチューブ(8)、(9)の内部を加熱するヒータ(12)、(13)、(15)とを有する縦型加熱装置において、前記ヒータ(12)、(13)、(15)は、加熱物の周囲を円筒状に囲んで配置した第一のヒータ(12)と、加熱物の上に対向して配置した第二のヒータ(13)と、加熱物の下に対向して配置した第三のヒータ(15)からなり、前記加熱物の周囲にある第一のヒータ(12)は、長尺板状のU字形に連なったヒータ部材(31)が加熱物の周囲に並べて上端から吊り下げられた状態で複数本配置され、且つ閉じたサークル状に順次直列に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の縦型加熱装置。
IPC (3件):
H01L 21/22 511
, C23C 16/46
, H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/22 511 A
, C23C 16/46
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
基板熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-340273
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
加熱炉
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-170806
出願人:石川島播磨重工業株式会社
-
熱処理装置及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-325008
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
特開平4-179223
-
特開平4-139381
全件表示
前のページに戻る