無侵襲生体計測装置および無侵襲生体計測方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西野卓嗣
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-206626
公開番号（公開出願番号）：特開2000-189391
特許番号：特許第4554739号
出願日： 1999年06月15日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】生体の一部を照明する光源部と、照明された生体の一部を撮像する撮像部と、撮像画像中に設定された解析領域を解析し生体情報を得るデータ処理部と、得られた生体情報を出力する出力部と、各種操作等を行うための操作部と備え、データ処理部は、撮像画像の特徴パターンを抽出する機能を備え、第1解析領域が設定済の第1撮像画像の特徴パターンを解析領域未設定の第2撮像画像の特徴パターンに対して相対移動させながら特徴パターンの一致の程度を表す評価値を算出し、その評価値を所定の条件に合致させるために必要な特徴パターンの相対移動量に基いて、第1解析領域に含まれる生体部位と同一の生体部位を含む第2解析領域を第2撮像画像中に設定する機能、および、第1解析領域および第2解析領域を解析することにより得られた生体情報の時系列変化を表示する表示画面を出力部に表示させる機能を備えることを特徴とする無侵襲生体計測装置。

IPC (3件)：

A61B 5/02 ( 200 6.01) , A61B 5/145 ( 200 6.01) , G01N 21/27 ( 200 6.01)

FI (3件)：

A61B 5/02 Z , A61B 5/14 310 , G01N 21/27 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

画像位置検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-341586 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
試料の寸法測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125592 出願人：株式会社日立製作所
ウェハの測定位置決定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352753 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (3件)

画像位置検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-341586 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
試料の寸法測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125592 出願人：株式会社日立製作所
ウェハの測定位置決定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-352753 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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