特許
J-GLOBAL ID：200903048617192401

ウェハの測定位置決定方法

発明者：
熱田 均

熱田 均 について

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角間 央章

角間 央章 について

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玉田 厚

玉田 厚 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-352753
公開番号（公開出願番号）：特開平10-173029
出願日： 1996年12月13日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 ウェハの回転方向が不明な場合にも、ウェハの測定点の位置を決定できる技術を提供する。【解決手段】 基準ウェハを用いて、回転角度θ1と、位置合わせ基準点RPの位置と、複数の測定点PM1〜PM15の位置とを予め登録する。また、位置合わせ基準点RPの近傍において第1のテンプレート画像を取得し、測定点の近傍において第2のテンプレート画像を取得する。被測定ウェハに関しては、まず、位置合わせ基準点RPの近傍の領域において第1のテンプレート画像を用いたパターンマッチング処理を行うことによって、被測定ウェハの回転方向θ2と位置合わせ基準点RPの位置とを決定する。また、これらの情報と、基準ウェハを用いて登録された情報とに基づいて、測定点の予測位置を決定する。そして、測定点の予測位置の近傍の領域において第2のテンプレート画像を用いたパターンマッチング処理を行うことによって、測定点の実測位置を決定する。
請求項（抜粋）：
被測定ウェハ上の測定点の位置を決定する方法であって、(a)前記被測定ウェハ表面の位置合わせ基準点と前記測定点との位置関係を予め登録するとともに、前記被測定ウェハ表面の前記位置合わせ基準点の近傍の画像に対してパターンマッチングを行う際に用いられる第1のテンプレート画像と、前記測定点の近傍の画像に対してパターンマッチングを行う際に用いられる第2のテンプレート画像と、を準備する工程と、(b)前記位置合わせ基準点の近傍の領域について第1の画像を取り込む工程と、(c)前記第1の画像に関して前記第1のテンプレート画像を用いたパターンマッチング処理を含む第1の処理を行うことによって、前記被測定ウェハの回転方向と前記位置合わせ基準点の位置とを決定する工程と、(d)決定された前記回転方向および前記位置合わせ基準点の位置と、予め登録された前記位置合わせ基準点と前記測定点との位置関係に基づいて、前記測定点の予測位置を決定する工程と、(e)前記予測位置の近傍の領域について第2の画像を取り込む工程と、(f)前記第2の画像に関して前記第2のテンプレート画像を用いたパターンマッチング処理を含む第2の処理を行うことによって、前記測定点の実測位置を決定する工程と、を備えることを特徴とするウェハの測定位置決定方法。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
H01L 21/68 F ,  H01L 21/66 B
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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