表面改質処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (6件)：牛木護 , 吉田正義 , 今枝弘充 , 梅村裕明 , 小合宗一 , 高橋知之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-125521
公開番号（公開出願番号）：特開2011-251228
出願日： 2010年06月01日
公開日（公表日）： 2011年12月15日
要約：

【課題】処理条件を効率的に設定することができる表面改質処理装置を提供する。【解決手段】被処理物10を真空に保持する第1処理室4と、前記被処理物10の表面に紫外光を照射する第1紫外光照射部6とを有する表面改質処理装置1において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部3を備え、前記処理ガスを前記第1処理室4に供給する。前記ガス生成部3は、第2処理室25と、前記第2処理室25内に酸素を供給する第2酸素供給路27と、前記酸素に紫外光を照射する第2紫外光照射部26とを有し、前記第2処理室25と前記第1処理室4とは連通路30を介して連通されており、前記第2処理室25内で生成された前記処理ガスを前記第1処理室4内に供給するように構成されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理物を真空に保持する第1処理室と、前記被処理物の表面に紫外線を照射する第1紫外線照射部とを有する表面改質処理装置において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部を備え、前記処理ガスを前記第1処理室に供給することを特徴とする表面改質処理装置。

IPC (2件)：

B01J 19/12 , C08J 7/18

FI (2件)：

B01J19/12 F , C08J7/18

Fターム (19件)：

4F073AA01 , 4F073BA28 , 4F073BB02 , 4F073CA45 , 4F073CA47 , 4F073CA62 , 4F073DA01 , 4F073DA07 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BA08 , 4G075CA02 , 4G075CA33 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EA05 , 4G075EB01 , 4G075EB31

引用特許：

審査官引用 (5件)

表面処理方法及び表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-312506 出願人：株式会社日立製作所
特開昭62-040730
特開昭62-138309

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