特許

J-GLOBAL ID：201103021762709830

環状アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

発明者： 中島 睦雄 ,  橘 誠一郎 ,  渡辺 武 ,  金生 剛 ,  長谷川 幸士 ,  西 恒寛 ,  畠山 潤
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-295282
公開番号（公開出願番号）：特開2002-308869
特許番号：特許第4206656号
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 下記一般式(i)で示される5員環アセタールと下記一般式(v)で示される6員環アセタールとからなる環状アセタール化合物混合物。 (式中、kは0又は1、nは0≦n≦6を満たす整数である。)

IPC (6件)：

C07D 317/24 ( 200 6.01) ,  C07D 319/06 ( 200 6.01) ,  C08F 32/08 ( 200 6.01) ,  C08G 61/08 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C07D 317/24 ,  C07D 319/06 ,  C08F 32/08 ,  C08G 61/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-128044   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開昭60-091350
  
• アセタール基により置換された芳香族ヒドロキシ化合物及びこれを含有するネガティブ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-254773   出願人：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
• フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-043101   出願人：現代電子産業株式会社
• 特開昭59-202209