特許

J-GLOBAL ID：201103022043746577

置換三環式化合物およびそれを含有する組成物

発明者： ニコラス・ジェイムズ・バック ,  ジョリー・アン・バスティアン ,  ダグラス・ウェイド・ベイト ,  マイケル・ディーン・キニック ,  マイケル・ジョン・マルティネリ ,  エドワード・デイビッド・ミヘリッチ ,  ジョン・マイケル・モリン・ジュニア ,  ダニエル・ジョン・サル ,  ジェイソン・スコット・ソーヤー ,  エドワード・シー・アール・スミス ,  テュリオ・スアレス ,  チウピン・ワン ,  トーマス・マイケル・ウィルソン
出願人/特許権者： 塩野義製薬株式会社
代理人 (4件)： 田村 恭生 ,  鮫島 睦 ,  坪井 有四郎 ,  品川 永敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109656
公開番号（公開出願番号）：特開平11-322745
特許番号：特許第4435325号
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 一般式(I): [式中、 Aはフェニルまたは、窒素が5位、6位、7位、または8位に存在するピリジルである; Bは窒素であり、Dは炭素である; Zは、フェニル、1位、2位または3位に硫黄または酸素からなる群から選択されたヘテロ原子1個を有するヘテロ6員環である; ....は二重結合または単結合である; R20は-CH2-フェニルであり; R21は水素または(-C7〜C12)アラルキルであり; R1’は-NH2であり; R2’は-O(CH2)tR5’であり、 ここに R5’はHまたは-CO2Hであり、そしてtは1〜5であり; R3’は水素である。 但し、AまたはZのどちらか1個はヘテロ環であるものとする] で示される化合物またはその製薬的に許容されるラセミ体、溶媒和物、互変異性体、光学異性体または塩。

IPC (2件)：

C07D 491/052 ( 200 6.01) ,  C07D 495/04 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C07D 491/052 CSP ,  C07D 495/04 111

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 置換三環化合物群
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-520585   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー
• 特表平5-502222
  
• sPLA2阻害剤1H-インドール-3-酢酸ヒドラジド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-077646   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー
• sPLA2阻害剤である1H-インドール-3-アセトアミド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-077650   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー

審査官引用 (4件)

• 置換三環化合物群
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-520585   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー
• 特表平5-502222
  
• sPLA2阻害剤1H-インドール-3-酢酸ヒドラジド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-077646   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー
• sPLA2阻害剤である1H-インドール-3-アセトアミド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-077650   出願人：イーライ・リリー・アンド・カンパニー