特許
J-GLOBAL ID:201103022710601981

フィルムキャリアの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 穂高 哲夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-063281
公開番号(公開出願番号):特開2000-260831
特許番号:特許第4055285号
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 2000年09月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】(1)金属箔の表面に、(a)一般式(I) (式中、R1は4価の有機基を示し、R2は2価の有機基を示し、X及びX′はそれぞれ独立に、-OH、-O-R、-NH-R′、-O-・+NR′′Z3を示し、R、R′及びR′′は重合性二重結合を有する基又は炭素数1〜3のアルキル基であり、Zは水素又は炭素1〜3のアルキル基であり、3個のZは同一であっても異なっていてもよい。)で示される繰り返し単位及び一般式(II) (式中、Yは-R3-CO-NH-R4-(式中、R3及びR4は2価の有機基を示す。)を示し、R1、X及びX′は一般式(I)に同じである。)で示される繰り返し単位を有するポリアミドイミド前駆体と、 (b)1分子中に1つのイソシアネート基と1個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させてなるエチレン性不飽和基含有ポリアミドイミド前駆体並びに、 (c)一般式(III)で示される3-置換クマリン化合物 (式中、R5、R6、R7、R8及びR9は、水素原子、1個の炭素数l〜5のアルキル基で置換されたアミノ基、2個の炭素数1〜5のアルキル基で置換されたアミノ基、炭素数l〜5のアルコキシ基、アシルオキシ基、アリール基、ハロゲン原子又は炭素数1〜5のチオアルキル基であり、R10はフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル基、ピリジル基、クマリニル基、アミノ基、炭素数1〜5のアルキル基で置換されたアミノ基、シアノ基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数l〜5のアルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ホルミル基、炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基又は炭素数1〜5のアシルオキシ基であり、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル基、ピリジル基及びクマリニル基は炭素数1〜5のアシル基で置換されてもよい。)及び一般式(IV)で示されるチタノセン化合物 (式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環基)から選ばれる少なくとも1種以上の光開始剤を含有する感光性樹脂組成物の層を形成する工程、 (2)感光性樹脂組成物の層に像的に活性光線又は化学線を照射し現像液で現像することにより該金属箔の表面上に感光性樹脂組成物のネガティブパターンを形成し、次いで加熱してポリアミドイミドパターンを形成する工程、並びに (3)金属箔をフォトエッチング法によりパターニングする工程を経ることを特徴とするフィルムキャリアの製造法。
IPC (3件):
H01L 21/60 ( 200 6.01) ,  C08G 73/10 ( 200 6.01) ,  C09D 179/08 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/60 311 W ,  C08G 73/10 ,  C09D 179/08 B
引用特許:
出願人引用 (7件)
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