特許

J-GLOBAL ID：201103023364147035

感放射線性樹脂組成物

発明者： 丸山 研 ,  志水 誠
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (5件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  菅野 重慶 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-225185
公開番号（公開出願番号）：特開2011-075687
出願日： 2009年09月29日
公開日（公表日）： 2011年04月14日
要約：

【課題】ナノエッジラフネス、感度、解像度に優れたレジスト被膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(a-1)〜(a-4)で表される各繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも1種を含有する樹脂及び(B)下記一般式(b)で表される酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(a-1)、下記一般式(a-2)、下記一般式(a-3)、及び、下記一般式(a-4)で表される各繰り返し単位からなる群より選択される少なくとも1種を有する樹脂と、 (B)下記一般式(b)で表される感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 12/04 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/56

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F12/04 ,  C08F20/10 ,  C08F20/56

Fターム (41件)：

2H125AF17P ,  2H125AF33P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AN39P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC49S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-033284   出願人：富士フイルム株式会社
• 新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-176053   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-316443   出願人：信越化学工業株式会社