特許
J-GLOBAL ID：201003019367059876

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-033284
公開番号（公開出願番号）：特開2010-191015
出願日： 2009年02月16日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、(C)疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式(1)で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。)【化1】【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、(C)疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式(1)で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26
Fターム (37件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100EA01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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