特許
J-GLOBAL ID：201103025499580289
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-364904
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183837
特許番号：特許第3963624号
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(イ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(ロ)ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、(ハ)(1)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、及び(2)プロピレングリコールモノメチルエーテル、並びに(ニ)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, H01L 21/30 502 R
