特許
J-GLOBAL ID：201103026012192668

光モジュールの製造方法

発明者：
横山 光

横山 光 について

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波多野 卓史

波多野 卓史 について

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高田 球

高田 球 について

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寺本 みゆき

寺本 みゆき について

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関根 孝二郎

関根 孝二郎 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372192
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188138
特許番号：特許第4161498号
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 導電性の基板上にアルミニウムを成膜するアルミニウム成膜工程と、 前記アルミニウム上に保護膜を成膜する保護膜形成工程と、 所定位置の前記保護膜を除去して前記アルミニウムを露出させる露出工程と、 前記所定位置の前記アルミニウムを陽極酸化して多孔質体から成るフォトニック結晶を形成する陽極酸化工程と、 前記保護膜及び前記アルミニウムを除去して前記フォトニック結晶を突出させる除去工程と、 前記基板上に下部クラッド層を成膜する下部クラッド形成工程と、 前記下部クラッド層上にコア層を成膜するコア形成工程と、 前記コア層を所定形状にパターニングして経路中に前記フォトニック結晶が配されるように導波路を形成する導波路形成工程と、 前記導波路を覆う上部クラッド層を成膜する上部クラッド形成工程とを備え、 前記陽極酸化工程よりも前に、露出された前記所定位置の前記アルミニウム上に所定の周期配列のピットを形成するピット形成工程を備えたことを特徴とする光モジュールの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 6/13 ( 200 6.01) ,  G02B 6/12 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 F
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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