特許
J-GLOBAL ID：201103026137714690

微細構造体の製造方法

発明者：
石田 方哉

石田 方哉 について

, 
古沢 昌宏

古沢 昌宏 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-098158
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284289
特許番号：特許第3921917号
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板の表面にフルオロアルキル基を含む第1の自己組織化膜を形成する工程と、 前記第1の自己組織化膜の一部を除去し、前記基板の表面に前記第1の自己組織化膜が残存した第1の部分と前記第1の自己組織化膜が除去された第2の部分とを形成する工程と、 前記第2の部分にアミノ基を含む第2の自己組織化膜を形成する工程と、 前記基板に機能性膜の原料液をスピンコート法により塗布し、前記原料液を乾燥させ、前記第2の部分にのみ前記機能性膜を形成する工程と、を有し、 前記第1の部分が前記第2の部分より前記原料液に対し撥液性が高く、前記第1の部分のパターン幅が4〜18μmであることを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (8件)：
H01L 21/288 ( 200 6.01) ,  B05D 1/40 ( 200 6.01) ,  B05D 7/04 ( 200 6.01) ,  G03F 7/38 ( 200 6.01) ,  H01L 21/28 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3205 ( 200 6.01) ,  H01L 29/06 ( 200 6.01)
FI (8件)：
H01L 21/288 Z ,  B05D 1/40 A ,  B05D 7/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/28 A ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/88 B ,  H01L 29/06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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