特許

J-GLOBAL ID：201103026212465804

プラズマ処理装置

発明者： 和泉 俊介 ,  虎口 信 ,  片桐 源一 ,  榊原 康史 ,  柳沼 禎浩 ,  永友 寿美
出願人/特許権者： 富士電機システムズ株式会社
代理人 (1件)： 山本 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-372199
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153998
特許番号：特許第3994608号
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】金属製の円筒型処理容器、処理容器の軸方向上端に配された電気絶縁性の窓、処理容器の外の前記の窓の近傍に配された高周波電磁界発生用の高周波誘導コイル、処理容器内に前記の窓に対向して配された被処理物搭載用の処理皿、処理容器内を減圧状態とする減圧手段、処理容器内に酸素または酸素を含む複数のガスを導入するためのガス導入口、前記の高周波誘導コイルに高周波電流を供給する高周波電源を備え、処理皿に被処理物を搭載し、減圧手段による減圧操作およびガス導入口からのガス導入操作によって処理容器内を所定のガス雰囲気とし、高周波電源より供給された高周波電流を高周波誘導コイルに通電して電磁界作用によって誘導結合型プラズマを発生させ、酸素ガスのプラズマ化により生じた活性酸素原子を作用させて被処理物を灰化減容するプラズマ処理装置において、 前記のガス導入口が、窓の下端と処理皿の上端との間の高さに位置する円筒型 処理容器の内壁に、円周上に均等に配置して複数個備えられ、 前記のガス導入口のうちの一部が、ガス導入方向が円筒型処理容器の周方向へと向かう周方向成分を持つように形成され、その他のガス導入口が、ガス導入方向が円筒型処理容器の中心軸方向へと向かうように形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

B09B 3/00 ( 200 6.01) ,  G21F 9/30 ( 200 6.01) ,  G21F 9/32 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B09B 3/00 303 H ,  B09B 3/00 301 P ,  G21F 9/30 571 E ,  G21F 9/30 571 F ,  G21F 9/32 B ,  H05H 1/46 L

引用特許：

審査官引用 (5件)

• イオン交換樹脂の減容処理方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-037478   出願人：富士電機株式会社
• プラズマ処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-349308   出願人：株式会社日立製作所
• 環状導波路を有するマイクロ波供給器及びそれを備えたプラズマ処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-135100   出願人：キヤノン株式会社
• 無端環状導波管を有するマイクロ波導入装置及び 該装置を備えたプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-319223   出願人：キヤノン株式会社
• マイクロ波供給器及びプラズマ処理装置並びに処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-306902   出願人：キヤノン株式会社