特許
J-GLOBAL ID:201103028389555121
感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法、この方法により得られる樹脂、この樹脂を含んだ組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (18件):
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 勝村 紘
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-033850
公開番号(公開出願番号):特開2011-168698
出願日: 2010年02月18日
公開日(公表日): 2011年09月01日
要約:
【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第1単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第2単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第1単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第2単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法。
IPC (5件):
C08F 220/10
, G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 212/14
FI (5件):
C08F220/10
, G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
, C08F212/14
Fターム (81件):
2H125AF15P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF20P
, 2H125AF21P
, 2H125AF26P
, 2H125AF34P
, 2H125AF36P
, 2H125AF45P
, 2H125AF52P
, 2H125AH05
, 2H125AH12
, 2H125AH14
, 2H125AH15
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ04Y
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ69Y
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN65P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125EA01P
, 4J100AB07P
, 4J100AB07Q
, 4J100AK32R
, 4J100AL03P
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL39Q
, 4J100AM47Q
, 4J100AM49Q
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA04P
, 4J100BA06P
, 4J100BA11R
, 4J100BA15Q
, 4J100BA15R
, 4J100BA40R
, 4J100BA50Q
, 4J100BA56Q
, 4J100BA58Q
, 4J100BA59Q
, 4J100BB10Q
, 4J100BB12Q
, 4J100BB18Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC43Q
, 4J100BC49Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53R
, 4J100BC65Q
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100EA01
, 4J100FA02
, 4J100FA19
, 4J100GC35
, 4J100JA38
引用特許:
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