特許
J-GLOBAL ID：201103029280688055
半導体基板の回転保持装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
木村 高明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-190790
公開番号（公開出願番号）：特開2011-044532
出願日： 2009年08月20日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：
【課題】有機金属気相成長法により反応炉内において半導体基板に気相状態で膜を形成する場合に、ガスホイール法を用いることなく半導体基板への高品質な膜の形成が可能であって、気相物質を供給した反応炉を開き人手による基板の出し入れを行う必要がないと共に、反応炉に供給される気相物質の供給効率を向上させることができる半導体基板の保持装置及び半導体基板の保持装置の搬送装置を提供する。【解決手段】サセプタ12は回転駆動軸15に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、半導体基板が載置される複数の基板ホルダ14が配置される開口部13は、上記サセプタ12の厚さ方向において貫通して形成され、上記サセプタ12の下方には上記基板ホルダ15が上下方向において解除可能に係合して、上記サセプタ12の回転により基板ホルダ14が回転しうる係合部16が設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機金属気相成長法により半導体基板に気相状態で膜を形成するために反応炉内において使用され、
円盤状に形成されて回転動するサセプタと、円盤状に形成され、上記サセプタに開設された複数の開口部内に着脱可能に配置されると共に上記サセプタの回転により上記開口部内で回転するように形成され、上面部には半導体基板が載置される複数の基板ホルダと、上記サセプタの下方に設けられ、上記サセプタを回転させる回転駆動軸とを有する半導体基板の回転保持装置であって、
上記サセプタは回転駆動軸に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、上記開口部は、上記サセプタの厚さ方向において貫通して形成され、
上記サセプタの下方には上記基板ホルダが上下方向において解除可能に係合して、上記サセプタの回転により基板ホルダを上記開口部内において回転させる
係合部が設けられていることを特徴とする半導体基板の回転保持装置。
IPC (3件)：
H01L 21/683
, H01L 21/677
, H01L 21/205
H01L21/68 N
, H01L21/68 A
, H01L21/205
5F031CA01
, 5F031DA13
, 5F031EA01
, 5F031FA03
, 5F031FA12
, 5F031GA10
, 5F031GA15
, 5F031GA49
, 5F031HA02
, 5F031HA07
, 5F031HA12
, 5F031HA42
, 5F031HA59
, 5F031KA03
, 5F031LA14
, 5F031MA28
, 5F045AA04
, 5F045AB14
, 5F045DP14
, 5F045DP15
, 5F045DP27
, 5F045DP28
, 5F045EN04
