特許

J-GLOBAL ID：201103029284779632

欠陥検査装置およびその方法

発明者： 酒井 薫 ,  浦野 貴裕
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-194960
公開番号（公開出願番号）：特開2011-047724
出願日： 2009年08月26日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：

【課題】 多様な欠陥種の高感度検出と高感度化に伴い増加するノイズやNuisance欠陥の抑制が必要である。【解決手段】 被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、前記照明光学系により照射された前記被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系と、異なる条件で前記検出光学系により取得された複数の画像データについてそれぞれ欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、前記複数の画像データについての欠陥候補を統合処理して欠陥判定を行う検査後処理部と、を備えた画像処理部と、を有する欠陥検査装置である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、 前記照明光学系により照射された前記被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系と、 異なる条件で前記検出光学系により取得された複数の画像データについてそれぞれ欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、前記複数の画像データについての欠陥候補を統合処理して欠陥判定を行う検査後処理部と、を備えた画像処理部と、 を有する欠陥検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01N21/956 A ,  H01L21/66 J

Fターム (18件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051BA01 ,  2G051CA03 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA24 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB02 ,  4M106DB20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 欠陥検査装置およびその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-115005   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• カラーフィルタ形成基板の異物検査方法およびカラーフィルタ形成基板の異物検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-126852   出願人：大日本印刷株式会社
• 欠陥検査方法及び外観検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-212978   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 検査方法及び検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-176590   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ