プラズマ処理室にプラズマを維持するエネルギを供給する方法、および電力供給システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583064
特許番号：特許第4451000号
出願日： 1999年09月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を処理するプラズマ処理室に、プラズマを維持するエネルギを供給するための電力供給システムであって、入力ポートと、第1の出力ポートと、第2の出力ポートと、第3の出力ポートとを有する金属製の格納容器と、前記格納容器内に設けられた配電ボックスであって、前記金属製の格納容器の外部から前記入力ポートを介してAC電力を受け取り、かつ、前記金属製の格納容器の外部のAC負荷に前記第1の出力ポートを介してAC電力を供給するための第1のAC入力ポートを備える、配電ボックスと、前記配電ボックスに電気的に接続されたDC電源であり、前記配電ボックスから前記AC電力を受けてDC電力を出力するよう構成され、前記金属製の格納容器内に配置されているDC電源であって、前記DC電力は、前記金属製の格納容器の外部に設けられたDC負荷に、前記第2の出力ポートを介して供給される、DC電源と、前記配電ボックスに電気的に接続されて前記AC電力を受けるとともに、前記DC電源に接続されて前記DC電力の供給を受け、前記金属製の格納容器内に配置されている第1の高周波発生器と、前記第1の高周波発生器の出力に電気的に接続されて、前記第1の高周波発生器から高周波エネルギを受ける第1のインピーダンス整合器であり、インピーダンスを整合した第1の高周波エネルギを前記プラズマ処理室の第1の電極に前記第3の出力ポートを介して供給するための第1のインピーダンス整合器出力を有し、前記金属製の格納容器内に配置されている第1のインピーダンス整合器と、を備え、前記金属製の格納容器の外部には、前記プラズマ処理室と関連づけられた他の高周波発生器は設けられていない、電力供給システム。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) , B01J 19/08 ( 200 6.01) , C23C 16/50 ( 200 6.01) , H01J 37/32 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (6件)：

H01L 21/302 101 G , B01J 19/08 H , C23C 16/50 , H01J 37/32 , H01L 21/205 , H05H 1/46 M

引用特許：

審査官引用 (7件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-240398 出願人：株式会社ダイヘン
ドライエツチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-180835 出願人：松下電器産業株式会社
特開平4-078133

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